核心观点 　　事件： 日本信越化学 KrF 光刻胶产能不足，多家中国大陆晶圆厂受到影响，部分企业甚至被断供，国产 KrF 光刻胶迎来发展机遇。 　　点评： 　　国外光刻胶巨头产能受限，供需紧张。 由于地震原因，全球五大光刻胶生产企业信越化学 KrF 光刻胶福岛工厂关闭，产能受限，限制对华出口光刻胶。同时由于全球晶圆厂新增产能较多，对光刻胶需求高涨，光刻胶供应持续紧张。 预计到 2024 年，全球会新增 22 座 8 英寸晶圆厂，预计月产能将达到 660 万片。 从国内市场看，中国大陆晶圆厂建设也迎来高速增长期，未来五年在中国大陆新建至少 29 座晶圆厂。 　　光刻胶行业具有极高技术壁垒，呈现寡头垄断格局。 光刻胶行业具有极高的行业壁垒，因此呈现寡头垄断的局面， 长年被日本和美国专业公司所垄断。目前前五大厂商占据了全球光刻胶市场 87%的份额，行业集中度极高。 国内半导体光刻胶同国外先进技术差距较大，国外已经可以量产第五代极紫外光刻机用光刻胶，而我国在这一领域尚处在实验室阶段，最新的 12 英寸晶圆所用的 ArF 光刻胶在我国还处在研发阶段， 8 英寸晶圆所用 KrF 光刻胶国产化率仅为 1%。 　　国内光刻胶行业正在加速追赶.由于国外对我国封锁高端光刻胶生产工艺技术，我国光刻胶自给率非常低，半导体光刻胶国产化率仅为个位数。高端光刻胶为国外巨头所垄断的行情时刻对我国芯片制造形成威胁。由于光刻胶保质期较短（6-9 个月），一旦发生突发事件，我国芯片制造即会受到威胁，因此国产化势在必行。国家也出台多项政策，鼓励高端光刻胶技术攻关。 根据科技部资料显示，目前国内几家公司：晶瑞股份子公司苏州瑞红拥有达到国际先进水平的光刻胶工厂，是国内最早规模化生产光刻胶的企业之一，承担国家 02 专项项目，产品已经向中芯国际、扬杰科技等公司供货。 目前拥有 i 线光刻胶 100 吨/年， KrF 光刻胶进入中试阶段； 彤程新材参股子公司北京科华是唯一被 SEMI 列入全球光刻胶八强的中国光刻胶公司。 同时投资 5.7 亿元在上海建设年产 1.1 万吨半导体、平板显示用光刻胶预计于 2021 年末建成投产。 现在北京科华可实现 i 线光刻胶 500 吨/年、 KrF 光刻胶产能 10 吨/年，其参与的国家科技重大专项极紫外（EUV）光刻胶项目已通过验收； 南大光电目前已经建成年产 25 吨 193nm（ArF）光刻胶，其研发团队阵容强大，均为国内半导体光刻胶一线人员。 上海新阳是承担国家“02 专项” 193nm 光刻胶项目公司之一， 公司是目前国内唯一可以生产 12 寸大硅片企业， 目前已经取得的台积电供货商资质。容大感光十年前开始光刻胶的研发与产业化，目前光刻胶产品涵盖的主要领域为平板显示、发光二极管、半导体芯片等。 　　风险提示： 研发进度不达预期， 海外技术封锁